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| 臺大學術典藏 |
1991 |
Reactive Ion Etching of GaAs Using CCl2F2 Plasma
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Hsu, S. M.; Lin, Hao-Hsiung; Hsu, S. M.; 林浩雄; Lin, Hao-Hsiung |
| 國立臺灣大學 |
1991 |
Reactive Ion Etching of GaAs Using CCl2F2 Plasma
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Hsu, S. M.; 林浩雄; Hsu, S. M.; Lin, Hao-Hsiung |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:03:27Z |
REACTIVE ION ETCHING OF GAINP, GAAS, AND ALGAAS
|
WU, JW; CHANG, CY; CHANG, EY; CHANG, SH; LIN, KC |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:02:31Z |
Reactive ion etching of GaN with BCl3/SF6 plasmas
|
Feng, MS; Guo, JD; Lu, YM; Chang, EY |
| 國立交通大學 |
2019-04-02T05:58:30Z |
Reactive ion etching of GaN with BCl3/SF6 plasmas
|
Feng, MS; Guo, JD; Lu, YM; Chang, EY |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:11:24Z |
Reactive ion etching of InP and InGaP using CH□/H□mixtures
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陳昶儒; Chen, Chang-Ru; 張國明; Zhang, Guo-Ming |
| 中原大學 |
1999 |
Reactive Ion Etching of Ir Films with a TiN Mask in Ar/O2/BCl3 Helicon Wave Plasma
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T.C.Wei;M.C.Chiang;F.M.Pan;T.P.Liu;B.T.Dai;H.C.Chien; |
| 中原大學 |
1992 |
Reactive ion etching of polyimidesiloxanes in fluorine-containing discharges
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S. Jeng;H.S. Kwok;J.A. Tyrell |
| 國立成功大學 |
1999-07-15 |
Reactive ion etching of Si SiGe in CF4/Ar and Cl-2/BCl3/Ar discharges
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Chang, Shoou-Jinn; Juang, Y. Z.; Nayak, D. K.; Shiraki, Y. |
| 國立成功大學 |
2000-06 |
Reactive ion etching of ZnSe, ZnSSe, ZnCdSe and ZnMgSSe by H-2/Ar and CH4/H-2/Ar
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Chen, W. R.; Chang, Shoou-Jinn; Su, Yan-Kuin; Lan, Wen-How; Lin, A. C. H.; Chang, H |
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