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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2016-12-20T03:57:06Z	以氮離子佈植及選擇性矽磊晶成長研發元件隔離技術	羅正忠
國立交通大學	2015-11-26T01:05:23Z	氟摻雜對應變矽於二氧化鉿堆疊式金氧半場效電晶體其特性和可靠度的影響	邱芳毓; Chiu, Fang-Yu; 羅正忠; Lou, Jen-Chung
國立交通大學	2014-12-16T06:17:26Z	低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:17:21Z	低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:17:19Z	在玻璃基板上製作單晶矽薄膜電晶體之方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:16:54Z	以液相沉積成長二氧化鉿薄膜之方法	蕭智文; 羅正忠; 陳昶維
國立交通大學	2014-12-16T06:13:44Z	在玻璃基板上製作單晶矽薄膜電晶體之方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:13:44Z	低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:13:33Z	低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法	葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-16T06:13:32Z	以液相沈積成長二氧化鉿薄膜之方法	蕭智文; 羅正忠; 陳昶維
國立交通大學	2014-12-13T10:51:28Z	氟鈍化應用於次世代快閃記憶體之可靠度研究	羅正忠; LOU JEN-CHUNG
國立交通大學	2014-12-13T10:48:37Z	矽微細加工型波長可調式紅外線偵檢元件研製(III)	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:48:19Z	矽微細加工型波長可調式紅外線偵檢元件研製(II)	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:39:52Z	微小機電元件與系統之研究---子計畫二：微小機電材料與製程技術發展與研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:39:36Z	快速加熱氧化氮化和化學氣相沈積對極大型積體電路製程技術之研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:39:07Z	以低壓化學氣相沉積氧化鉭和氧化鈦薄膜在動態隨機記憶體元件技術之研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:39:06Z	微機電系統校際整合研究---子計畫二：微小機電材料與製程技術發展與研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:38:24Z	化學氣相沈積氧化鉭在鎢基板上之動態隨機記憶體電容器之研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:37:11Z	化學氣相沈積氧化鉭在Noble金屬電極之動態隨機存取記憶體電容器之研究	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:36:31Z	矽微細加工型波長可調式紅外線偵檢元件研製	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:33:31Z	奈米世代MOSFET關鍵製程技術之研發(II)	羅正忠
國立交通大學	2014-12-13T10:32:02Z	高介電常數材料在奈米元件關鍵製程技術之研發(I)	羅正忠
國立交通大學	2014-12-12T03:11:24Z	黑鑽薄膜烘烤之微粒污染研究與解決方案	廖啟銘; Chi-Min Liao; 羅正忠; 林昇甫; Jen-Chung Lou; Sheng-Fuu Lin
國立交通大學	2014-12-12T03:03:10Z	高介電常數材料(HfAlO)沉積前後表面處理之研究	陳彥銘; Yen-Min Chen; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:03:09Z	使用3D 有限時域差分法分析相位移光罩接觸孔	王昱鈞; Yu-Jun Wang; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:03:09Z	含鎳/鎳鍺奈米點之氧化鍺非揮發性記憶體	張俐婷; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-12T03:02:52Z	低功率管線式類比數位轉換器的設計與分析	張仲儀; Johnny Chang; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:42Z	奈米快閃記憶體之特性與研究	謝智仁; Chih Ren, Hsieh; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-12T03:02:40Z	鎳矽氧化物與鎳矽氮化物奈米點在非揮發性記憶體應用之研究	葉睿龍; 羅正忠; 葉清發
國立交通大學	2014-12-12T03:02:38Z	超薄含氮氧化層創新製程技術應用在n型金氧半場效電晶體之特性研究	葉建宏; Chien-Hung Yeh; 葉清發; 羅正忠; Chin-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:36Z	二氧化鉿與氧化鋁鉿之堆疊式閘極在金氧半場效電晶體上的特性研究	邱大峰; Da-Feng Chiou; 羅正忠; 葉清發; Jen-Chung Lou; Ching-Fa Yeh
國立交通大學	2014-12-12T03:02:33Z	新穎含氮氧化層應用於二氧化鉿儲存層快閃記憶體之研究	林正凱; Jheng-Kai Lin; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:33Z	利用氟摻雜前處理技術應用於高介電常數閘極介電層薄膜電晶體之研究	張宏仁; Hong-Ren Chang; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-Shiou Chiou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:31Z	氟摻雜對二氧化鉿堆疊式閘極P型金氧半場效電晶體其可靠性的影響	王信智; Hsin Chih Wang; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-ChungLou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:31Z	使用ㄧ次曝光和二元光罩來產生擁有良好聚焦深度的細線之模擬與研究	曹人傑; Jen-Chieh Tsao; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-shiou Chiou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:31Z	金屬奈米點記憶特性及研究	陳德安; De-An Chan; 羅正忠; 邱碧秀; Jen-Chung Lou; Bi-shiou Chiou
國立交通大學	2014-12-12T03:02:25Z	二維完美匹配層應用於多重解析法之光學微影模擬	曾建彰; Jian-Zhang Zeng; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:01:49Z	新穎的SONOS儲存單元製程之研究	黃一桀; Yi-Chieh Huang; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T03:00:14Z	化學機械研磨與蝕刻製程導致微影疊對誤差變異的影響研究與改善	陳峰義; Feng-Yi Chen; 羅正忠; Dr. Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:52:08Z	1.25億位元/每秒四分之ㄧ時脈與資料回復電路設計與實現	林建華; Jian-Hua Lin; 羅正忠; Zheng-Zhong Luo
國立交通大學	2014-12-12T02:51:47Z	二氧化鉿堆疊式閘極在n型金氧半場效電晶體上的特性研究	紀伯翰; Bor-Han Ji; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:51:46Z	紫外光在非晶矽薄膜電晶體特性影響之研究	陳忠樂; chung-le chen; 羅正忠; 李義明; Jen-Chung Lou; Yiming Li
國立交通大學	2014-12-12T02:51:42Z	基板材料對於堆疊式快閃記憶體寫入/抹除效率的影響	謝致維; Chih-Wei Hsieh; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:51:39Z	以偏軸發光照射實現具有光瞳濾波效果的接觸窗相移圖罩之模擬與研究	胡國信; Guo-Xin Hu; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:51:37Z	次世代低功率快閃記憶體元件之特性與研究	呂國源; Kuo-Yuan Lu; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:51:37Z	高介電常數材料二氧化鉿於金屬-絕緣體-金屬電容之研究	許修豪; Shiou-Hau Hsu; 羅正忠; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:51:36Z	旋塗式有機主動層薄膜電晶體的研究	倪佳寧; Jia-Ning Ni; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學	2014-12-12T02:50:35Z	氮氧化層及高介電常數介電層在金氧半元件及快閃記憶體上之特性研究	陳永裕; Yeong-Yuh Chen; 羅正忠; 簡昭欣
國立交通大學	2014-12-12T02:50:20Z	應用超臨界二氧化碳清除蝕刻後殘餘污染物之研究	張心鴻; 羅正忠
國立交通大學	2014-12-12T02:30:44Z	改良式元件轉移技術製程之研發與應用	徐中玓; Chung-Ti Hsu; 羅正忠; Jen-Chung Lou

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