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"胡振國"
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| 臺大學術典藏 |
2009-04-27T04:28:29Z |
Radiation Hardness of Coplanar Submicron Gap Charge-Coupled Devices (CCD) with Rapid Thermal Nitrided Oxides
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Lee, G. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, G. C.; 胡振國; Lee, G. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, G. C. |
| 臺大學術典藏 |
2009-04-27T04:27:06Z |
Radiation Hardness of Coplanar Submicron Gap Charge-Coupled Devices (CCD) with Rapid Thermal Nitrided Oxides
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Hwu, Jenn-Gwo; Lee, K. C.; 胡振國; Lee, K. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, K. C. |
| 臺大學術典藏 |
2009-02-24T03:49:30Z |
Clockwise C-V Hysteresis Phenomena of Metal-Tantalum Oxide-Silicon-Oxide-Silicon(P) Capacitors Due to Leakage Current Through Tantalum Oxide
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Tu, Y. K.; Wang, Way-Seen; Hwu, Jenn-Gwo; Hwu, Jenn-Gwo; Wang, Way-Seen; Tu, Y. K.; Jeng, M. J.; 胡振國; Jeng, M. J.; 王維新; Tu, Y. K. |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
微電子工程學門研究發展及推動規劃(3/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
先進CMOS元件及製程研究－總計畫(3/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(3/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
微電子工程學門研究發展及推動規劃(2/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(3/3)
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胡振國 |
| 國立臺灣大學 |
2008-07-31 |
超薄絕緣層新穎製程開發及其在矽金氧半元件之應用 （新制多年期第1年）
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胡振國 |
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