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机构	日期	题名	作者
國立臺灣大學	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	微電子工程學門研究發展及推動規劃(2/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	超薄絕緣層新穎製程開發及其在矽金氧半元件之應用　（新制多年期第1年）	胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	微電子工程學門研究發展及推動規劃(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2008-04-30	先進CMOS元件及製程研究－總計畫(2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2006-07-25T09:02:08Z	快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國
臺大學術典藏	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國
國立臺灣大學	2003	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3)	胡振國
國立臺灣大學	2003	總計畫─矽新型元件及模組技術研發(2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國; 胡振國

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