臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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"胡振國"

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臺大學術典藏	2006-07-25T09:02:08Z	快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國
臺大學術典藏	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國
國立臺灣大學	2003	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3)	胡振國
國立臺灣大學	2003	總計畫─矽新型元件及模組技術研發(2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2003	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2003	總計畫─矽新型元件及模組技術研發(2/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫	胡振國
國立臺灣大學	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(3/3)	胡振國
臺大學術典藏	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國
國立臺灣大學	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─總計畫	胡振國
臺大學術典藏	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2001-07-31	液相氧化及輻射技術在超薄閘極氧化層製程之應用	胡振國
臺大學術典藏	2001-07-31	液相氧化及輻射技術在超薄閘極氧化層製程之應用	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究	胡振國
國立臺灣大學	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫	胡振國
臺大學術典藏	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2000-07-31	低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---總計畫(II)	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---子計畫I：快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(II)	胡振國;馮蟻剛
國立臺灣科技大學	2000	低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---總計畫(I)	胡振國;劉致為;翁宗賢
國立臺灣大學	2000	快速熱機台設備及製程研發(1/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究	胡振國
國立臺灣大學	2000	快速熱機台設備及製程研發(1/3)─總計畫	胡振國
臺大學術典藏	2000	快速熱機台設備及製程研發(1/3)─總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	1999	半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一：快速熱處理機台自動化研究	胡振國
國立臺灣大學	1999	─半導體關鍵設備研發－總計畫(III)	胡振國
國立臺灣大學	1999	快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究	胡振國
國立臺灣大學	1999	參加1998國際電子元件材料會議	胡振國
臺大學術典藏	1999	半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一：快速熱處理機台自動化研究	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	1999	快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	1999	參加1998國際電子元件材料會議	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	1999	─半導體關鍵設備研發－總計畫(III)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	1998	半導體關鍵設備研發(II)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究	胡振國
國立臺灣大學	1998	半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	1998	低溫預成長再高溫快速熱處理備製薄閘極氧化層	胡振國
臺大學術典藏	1998	半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3)	胡振國; 胡振國

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