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臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
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Institution Date Title Author
臺大學術典藏 2001-07-31 液相氧化及輻射技術在超薄閘極氧化層製程之應用 胡振國; 胡振國
國立臺灣大學 2001 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究 胡振國
國立臺灣大學 2001 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫 胡振國
臺大學術典藏 2001 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 2001 快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫 胡振國; 胡振國
國立臺灣大學 2000-07-31 低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究 胡振國
國立臺灣科技大學 2000 快速熱機台設備及製程研發---總計畫(II) 胡振國
國立臺灣科技大學 2000 快速熱機台設備及製程研發---子計畫I:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(II) 胡振國;馮蟻剛
國立臺灣科技大學 2000 低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究 胡振國
國立臺灣科技大學 2000 快速熱機台設備及製程研發---總計畫(I) 胡振國;劉致為;翁宗賢
國立臺灣大學 2000 快速熱機台設備及製程研發(1/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究 胡振國
國立臺灣大學 2000 快速熱機台設備及製程研發(1/3)─總計畫 胡振國
臺大學術典藏 2000 快速熱機台設備及製程研發(1/3)─總計畫 胡振國; 胡振國
國立臺灣大學 1999 半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 胡振國
國立臺灣大學 1999 ─半導體關鍵設備研發-總計畫(III) 胡振國
國立臺灣大學 1999 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 胡振國
國立臺灣大學 1999 參加1998國際電子元件材料會議 胡振國
臺大學術典藏 1999 半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 參加1998國際電子元件材料會議 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 ─半導體關鍵設備研發-總計畫(III) 胡振國; 胡振國
國立臺灣大學 1998 半導體關鍵設備研發(II)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 胡振國
國立臺灣大學 1998 半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3) 胡振國
國立臺灣大學 1998 低溫預成長再高溫快速熱處理備製薄閘極氧化層 胡振國
臺大學術典藏 1998 半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3) 胡振國; 胡振國

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