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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2009-04-27T04:28:29Z	Radiation Hardness of Coplanar Submicron Gap Charge-Coupled Devices (CCD) with Rapid Thermal Nitrided Oxides	Lee, G. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, G. C.; 胡振國; Lee, G. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, G. C.
臺大學術典藏	2009-04-27T04:27:06Z	Radiation Hardness of Coplanar Submicron Gap Charge-Coupled Devices (CCD) with Rapid Thermal Nitrided Oxides	Hwu, Jenn-Gwo; Lee, K. C.; 胡振國; Lee, K. C.; Hwu, Jenn-Gwo; Lee, K. C.
臺大學術典藏	2009-02-24T03:49:30Z	Clockwise C-V Hysteresis Phenomena of Metal-Tantalum Oxide-Silicon-Oxide-Silicon(P) Capacitors Due to Leakage Current Through Tantalum Oxide	Tu, Y. K.; Wang, Way-Seen; Hwu, Jenn-Gwo; Hwu, Jenn-Gwo; Wang, Way-Seen; Tu, Y. K.; Jeng, M. J.; 胡振國; Jeng, M. J.; 王維新; Tu, Y. K.
國立臺灣大學	2008-07-31	微電子工程學門研究發展及推動規劃(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－總計畫(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	微電子工程學門研究發展及推動規劃(2/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2008-07-31	超薄絕緣層新穎製程開發及其在矽金氧半元件之應用　（新制多年期第1年）	胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	微電子工程學門研究發展及推動規劃(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	先進CMOS元件及製程研究－子計畫一：適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2008-07-31	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2008-04-30	先進CMOS元件及製程研究－總計畫(2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2006-07-25T09:02:08Z	快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國
臺大學術典藏	2005	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2005	矽金氧半超薄閘極絕緣層製程研發及新型元件應用(1/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004-07-31	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究 (2/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國
國立臺灣大學	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用(3/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2004	矽新型元件及模組技術研發─總計畫(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國
國立臺灣大學	2003	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3)	胡振國
國立臺灣大學	2003	總計畫─矽新型元件及模組技術研發(2/3)	胡振國
臺大學術典藏	2003	矽新型元件及模組技術研發(2/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2003	快速熱製程氧化層之均勻度與應力效應研究(1/3)	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2003	總計畫─矽新型元件及模組技術研發(2/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)總計畫	胡振國
國立臺灣大學	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(3/3)	胡振國
臺大學術典藏	2002-07-31	快速熱機台設備及製程研發(3/3)子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(3/3)	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國
國立臺灣大學	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─總計畫	胡振國
臺大學術典藏	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─子計畫一:超薄膜層氧化技術在矽元件之應用	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2002	矽新型元件及模組技術研發(1/3)─總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2001-07-31	液相氧化及輻射技術在超薄閘極氧化層製程之應用	胡振國
臺大學術典藏	2001-07-31	液相氧化及輻射技術在超薄閘極氧化層製程之應用	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究	胡振國
國立臺灣大學	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫	胡振國
臺大學術典藏	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─子計畫一:快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究	胡振國; 胡振國
臺大學術典藏	2001	快速熱機台設備及製程研發(2/3)─總計畫	胡振國; 胡振國
國立臺灣大學	2000-07-31	低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---總計畫(II)	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---子計畫I：快速熱重覆脈衝加熱製程系統之研究(II)	胡振國;馮蟻剛
國立臺灣科技大學	2000	低漏流高穩定性超薄閘極氧化層製程研究	胡振國
國立臺灣科技大學	2000	快速熱機台設備及製程研發---總計畫(I)	胡振國;劉致為;翁宗賢

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