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机构 日期 题名 作者
國立臺灣大學 1999 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 胡振國
國立臺灣大學 1999 參加1998國際電子元件材料會議 胡振國
臺大學術典藏 1999 半導體關鍵設備研發(III)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 參加1998國際電子元件材料會議 胡振國; 胡振國
臺大學術典藏 1999 ─半導體關鍵設備研發-總計畫(III) 胡振國; 胡振國
國立臺灣大學 1998 半導體關鍵設備研發(II)─子計畫一:快速熱處理機台自動化研究 胡振國
國立臺灣大學 1998 半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3) 胡振國
國立臺灣大學 1998 低溫預成長再高溫快速熱處理備製薄閘極氧化層 胡振國
臺大學術典藏 1998 半導體工程人才培育計畫─子計畫二:矽金氧半光電元件製作(3/3) 胡振國; 胡振國

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