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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2018-01-24T07:42:57Z 不同快速退火條件對氧化鋅薄膜電晶體的特性探討 劉又銘; 荊鳳德; Liou, You-Ming; Chin, Albert
國立交通大學 2018-01-24T07:42:54Z 高性能氮化鋁鎵/氮化鎵電晶體之製作與分析 郭家銘; 荊鳳德; Guo, Jia-Ming; Chin, Albert
國立交通大學 2018-01-24T07:41:56Z 使用ZrO2 當做緩衝層的多階電阻式記憶體之電阻轉 態特性研究 朴美佳; 荊鳳德; BHOOLAXMI MEKALA; Chin, Albert
國立交通大學 2018-01-24T07:40:12Z 鋁摻雜氧化鋅薄膜電晶體之特性探討 杜文翔; 荊鳳德; Du, Wen-Xiang; Chin, albert
國立交通大學 2018-01-24T07:40:12Z 紫外光的曝曬及結構性變化對於p型氧化亞錫薄膜電晶體之特性影響 何任詮; 荊鳳德; He, Ren-Chiuan; Albert, Chin
國立交通大學 2018-01-24T07:40:06Z 擁有低溫快速退火條件的HfAlO鐵電記憶體 陳俊任; 荊鳳德; Chen, Jyun-Ren; Chin, Feng-Der
國立交通大學 2018-01-24T07:40:05Z 在介面改質與不同製程條件下,HTO鍺鐵電電容的特性探討 范景淳; 荊鳳德; Fan, Ching-Chun; Chin, Feng-Der
國立交通大學 2018-01-24T07:37:04Z 氧化矽與氧化鈦複合材料的電阻式記憶體電性切換特性探討 蘇雪柔; 荊鳳德; Amanda, Sharon DSouza; Chin, Albert
國立交通大學 2018-01-24T07:37:02Z 不同退火條件下對於p-type SnO 與 n-type SnO2 薄膜電晶體之特性探討 邊廷宇; 荊鳳德; Pien, Ting Yu; Chin, feng-de
國立交通大學 2018-01-24T07:37:01Z 對於不同溫度條件下的HfZrO與HfAlO鐵電記憶體電容之特性探討 林金翰; 荊鳳德; Lin, Jin-Han; Chin, Albert

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