English  |  正體中文  |  简体中文  |  总笔数 :0  
造访人次 :  52857231    在线人数 :  489
教育部委托研究计画      计画执行:国立台湾大学图书馆
 
臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)
关于TAIR

浏览

消息

著作权

相关连结

"葉清發"的相关文件

回到依作者浏览
依题名排序 依日期排序

显示项目 1-50 / 104 (共3页)
1 2 3 > >>
每页显示[10|25|50]项目

机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2016-12-20T03:57:09Z 室溫液相沈積矽氧化膜之特性探討 葉清發 
國立交通大學 2016-12-20T03:57:07Z 高功率積體電路用矽晶片直接黏合技術(II) 葉清發 
國立交通大學 2015-05-01T11:08:44Z 前瞻半導體技術研討會會後感 葉清發
國立交通大學 2014-12-16T06:17:26Z 低溫沉積氧化層的方法 葉清發; 陳柏翰; 王碩晟; 徐中玓
國立交通大學 2014-12-16T06:17:26Z 製作複晶矽薄膜電晶體之方法 葉清發; 陳添富
國立交通大學 2014-12-16T06:17:26Z 低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-16T06:17:21Z 低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-16T06:17:19Z 在玻璃基板上製作單晶矽薄膜電晶體之方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-16T06:13:44Z 製作複晶矽薄膜電晶體之方法 葉清發; 陳添富
國立交通大學 2014-12-16T06:13:44Z 在玻璃基板上製作單晶矽薄膜電晶體之方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-16T06:13:44Z 低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-16T06:13:33Z 低溫多晶矽薄膜電晶體主動層之雷射再結晶方法 葉清發; 陳添富; 羅正忠
國立交通大學 2014-12-13T10:40:43Z 研製耐輻射/耐放射線之半導體基板SOI(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:59Z 低漏電流複晶矽薄膜電晶體的低溫製作 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:56Z 研製耐放射線/輻射線之半導體基板SOI(II) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:21Z 低溫液相沈積二氧化矽薄膜之研究發展 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:21Z 新結構的複晶矽薄膜電晶體的設計與低溫製作(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:08Z 複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發---子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絕緣層之研究 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:39:03Z 超大型積體電路多層配導線間含氟絕緣膜之開發研究 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:38:07Z 複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發---子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絕緣層之研究(III) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:37:53Z 奈米金屬閘MOS元件製程技術之研發 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:37:05Z 製作低溫(450℃)鋁閘極複晶矽薄膜電晶體之相關技術開發---鋁閘極複晶矽薄膜電晶體關鍵技術---Poly-Oxide及Al/sub 2/O/sub 3/之研究與應用(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:36:47Z 低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:36:16Z 塑膠基板上半導體元件的關鍵製作技術研發 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:35:48Z 低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製 (III) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:34:28Z 奈米世代MOSFET關鍵製程技術之研發(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:31:48Z 奈米世代MOSFET關鍵製程技術之研發(III) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:30:11Z 旋塗式有機薄膜電晶體的電性研究與製程開發(I) 葉清發
國立交通大學 2014-12-13T10:29:20Z 低溫製作高移動率偏置型鋁閘極複晶矽薄膜電晶體 葉清發
國立交通大學 2014-12-12T03:02:40Z 鎳矽氧化物與鎳矽氮化物奈米點在非揮發性記憶體應用之研究 葉睿龍; 羅正忠; 葉清發
國立交通大學 2014-12-12T03:02:38Z 超薄含氮氧化層創新製程技術應用在n型金氧半場效電晶體之特性研究 葉建宏; Chien-Hung Yeh; 葉清發; 羅正忠; Chin-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學 2014-12-12T03:02:36Z 二氧化鉿與氧化鋁鉿之堆疊式閘極在金氧半場效電晶體上的特性研究 邱大峰; Da-Feng Chiou; 羅正忠; 葉清發; Jen-Chung Lou; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T03:02:31Z 氟摻雜對二氧化鉿堆疊式閘極P型金氧半場效電晶體其可靠性的影響 王信智; Hsin Chih Wang; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-ChungLou
國立交通大學 2014-12-12T02:51:47Z 二氧化鉿堆疊式閘極在n型金氧半場效電晶體上的特性研究 紀伯翰; Bor-Han Ji; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學 2014-12-12T02:51:42Z 基板材料對於堆疊式快閃記憶體寫入/抹除效率的影響 謝致維; Chih-Wei Hsieh; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學 2014-12-12T02:51:36Z 旋塗式有機主動層薄膜電晶體的研究 倪佳寧; Jia-Ning Ni; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou
國立交通大學 2014-12-12T02:51:28Z 高介電常數材料(HfAlOxNy)在MOS元件上特性之研究 傅文煜; Wen-Yu Fu; 葉清發; Chin-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:29:37Z 高性能後化學機械研磨清洗技術之探討 李文山; Wen- Shan Lee; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:28:11Z 微量分子污染對元件特性之影響 謝志民; Zhi-Min Xie; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:28:07Z 選擇性液相沉積氧化膜在超淺接面矽化鎳製程之應用 詹文炘; Wen-Hsin Chan; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 低熔點基板上主動式元件關鍵製程開發 黃建凱; Chien-Kai Huang; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 高質液相沈積絕緣膜暨其微污染膜質探討 潘星睿; Shing-Rui Pan; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:26:14Z 提升式通道結構及鍺引致再結晶複晶矽薄膜電晶體之研製 施俊宏; Chun-Hung Shih; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung. Lo
國立交通大學 2014-12-12T02:25:38Z 液相沉積絕緣膜之高品質化探討 陳柏翰; Bo-Hen Chen; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:25:34Z 微污染與元件特性之評測 林炫政; Shiuan-Jeng Lin; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:25:33Z 液相沈積絕緣膜之電漿處理效應 蕭宇傑; Yu-Jie Shiau; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:24:39Z 利用T型閘極與氨氣電漿處理提升薄膜電晶體元件可靠度之研究 蔣陳偉; Chen-Wei Chiang; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:24:31Z 有機添加劑和改變稀釋比例之化學機械研磨 洪啟哲; Chi-Che Hong; 葉清發; 蔡明蒔
國立交通大學 2014-12-12T02:24:27Z 旋塗式有機主動層薄膜電晶體的製程改善與可靠度研究 鐘漢邠; Han-Pin Chung; 葉清發; Ching-Fa Yeh
國立交通大學 2014-12-12T02:24:00Z 沉基氧化鋁絕緣層之前的不同表面處理之研究 陳昶維; Chang-Wei Chen; 葉清發; 羅正忠; Ching-Fa Yeh; Jen-Chung Lou

显示项目 1-50 / 104 (共3页)
1 2 3 > >>
每页显示[10|25|50]项目