臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
國立臺灣科技大學	2013	奈米鑽石石墨研磨墊應用於化學機械研磨移除晶圓氧化層特性之研究	蔡明義;陳建勳;Tsai, Ming-Yi;Chen, Chien-Hsun
國立成功大學	2012-07-17	醯胺碸基化合物與碸基自由基的環合反應	蔡明義; Tsai, Ming-Yi
國立勤益科技大學	2012	熱電致冷系統輔助微量潤滑之研究	塗銘訓; 蔡明義
國立勤益科技大學	2012	新式鑽石修整器修整特性與對晶圓拋光率影響之研究	曾俊霖; 蔡明義; 王丁
國立勤益科技大學	2012	鑽石磨粒篩分運動型態與過篩分析之研究	李秉學; 蔡明義
國立勤益科技大學	2012	氫化石墨砂輪於不同冷卻液環境磨削工具鋼之研究	簡世欣; 蔡明義
國立勤益科技大學	2011-12	Optimal Gold-Ball Bonding Parameters Determined from Ball Shear and Wire Pull Tests	蔡明義
國立勤益科技大學	2011-04	Effect of Diamond Oxidation Temperature on the Performance of a Diamond Disk in Chemical Mechanical Polishing	蔡明義
國立勤益科技大學	2011	藉由推/拉力數值檢驗找出最佳的金球銲線參數	劉榮貴; 蔡明義
國立勤益科技大學	2011	超音波輔助鑽石修整器與高壓噴射修整CMP拋光墊技術開發研究	楊緯政; 蔡明義
國立勤益科技大學	2011	單晶鑽石於CMP修整特性之研究	陳緯凱; 蔡明義
國立勤益科技大學	2010	組合式鑽石修整器修整特性及其對氧化層晶圓移除率影響之研究	彭建達; 蔡明義
國立勤益科技大學	2010	親水性石墨拋光墊修整特性及其氧化層晶圓性能之研究	顏力偉; 蔡明義
國立勤益科技大學	2009-09	Dressing Behaviors of PCD Conditioners on CMP Polishing Pads	蔡明義
國立臺灣大學	2007	CMP鑽石修整器修整聚胺酯拋光墊表面特性之研究	蔡明義; Tsai, Ming-Yi
國立成功大學	2002-05-25	企業技術能力發展與產學合作關係之研究	蔡明義; Tsai, Ming-Yi
國立勤益科技大學	1999-11	晶片CMP製程之機械磨耗機制研究與實驗探討	蔡明義
國立臺灣科技大學	1995	二硫化鐵單晶之能帶結構及其缺陷與雜質之研究	蔡明義

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