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機構 日期 題名 作者
國立勤益科技大學 2011 單晶鑽石於CMP修整特性之研究 陳緯凱; 蔡明義
國立勤益科技大學 2010 組合式鑽石修整器修整特性及其對氧化層晶圓移除率影響之研究 彭建達; 蔡明義
國立勤益科技大學 2010 親水性石墨拋光墊修整特性及其氧化層晶圓性能之研究 顏力偉; 蔡明義
國立勤益科技大學 2009-09 Dressing Behaviors of PCD Conditioners on CMP Polishing Pads 蔡明義
國立臺灣大學 2007 CMP鑽石修整器修整聚胺酯拋光墊表面特性之研究 蔡明義; Tsai, Ming-Yi
國立成功大學 2002-05-25 企業技術能力發展與產學合作關係之研究 蔡明義; Tsai, Ming-Yi
國立勤益科技大學 1999-11 晶片CMP製程之機械磨耗機制研究與實驗探討 蔡明義
國立臺灣科技大學 1995 二硫化鐵單晶之能帶結構及其缺陷與雜質之研究 蔡明義

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