臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
中國文化大學	2013-08	具有最佳熱穩定及電性穩定度的極薄高介電常數材料做為電容結構專用於記憶體元件之研究與製作	譚湘瑜
中國文化大學	2012~2013	利用3D模擬與製程技術製作最佳的氮化金屬與High-k閘極結構用於 CMOS 次 10奈米	譚湘瑜
中國文化大學	2012-06	針對金屬閘極TiN 堆疊不同厚度之電性探討	簡瑋志; 譚湘瑜
中國文化大學	2009	控制深層氧陷阱之產生在Hf-based/Si閘極結構層之研究	譚湘瑜
中國文化大學	2008-06-01	以矽化鎳作為閘極金屬層用在奈米級CMOS元件之特性探討	陳人豪;陳昱全;陳書群;劉立康;鄭百勝;林佩洵;譚湘瑜
中國文化大學	2008-06-01	閘極氧化層以鉿化合物取代二氧化矽之CMOS元件特性探討	陳蕙質;陳思羽;劉允中;邱琦清;朱明毅;譚湘瑜
中國文化大學	2008	針對介面原子晶格結構與能帶和諧度在 Ni-Fusi/HF-based/Si 閘極結構層之研究	譚湘瑜
中國文化大學	2007	利用I-V-T 和X光繞射技術用在堆積層 Ni-Fusi/HfO2 與 Ni-Fusi/SiO2 中針對介面特性之研究	譚湘瑜
中國文化大學	2006-06-01	對CMOS閘極氧化層線寬為130nm、90nm、65nm時的模擬與分析	陳宜澤; 馮舉威; 邱顯嘉; 胡峻諺; 謝宗原; 譚湘瑜
中國文化大學	2005-06-01	Challenges and Performance Limitations of High-k and Oxynitride Dielectrics Materials for Low Power CMOS Applications	譚湘瑜; 劉宗慶

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