| 國立交通大學 |
2014-12-16T08:15:02Z |
半導體奈米技術
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龍文安 |
| 國立交通大學 |
2014-12-16T08:15:01Z |
積體電路微影製程
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龍文安 |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:50:02Z |
相同劑量下45奈米節點微影全程禁止間距及圖罩偏差增大因子之改善與相關薄膜研製
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:40:33Z |
高敏感光罩用電子束阻劑系統之研究
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:39:19Z |
0.25-0.35微米圖案轉移用石英蝕刻調細式相移光罩之最佳化模擬及其研製
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:39:03Z |
嵌附調細式相移光罩研製
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:38:25Z |
嵌附減光式相移光罩吸光相移層研製
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:38:08Z |
電子束微影近距效應校正參數求測
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:37:46Z |
嵌附式減光式相移光罩之模擬與製備
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:36:53Z |
嵌附式減光型相移圖罩之模擬與製備
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:36:53Z |
電子束微影之鄰近效應修正
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:36:17Z |
193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:34:53Z |
193奈米微影解像度增進技術---高透射率嵌附層之研製、應用探討與模擬
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:33:37Z |
高透射率嵌附層、唯相移層、極短紫外光反射式圖罩吸收層與緩衝層之材料、電漿蝕刻與性質探討(I)
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:32:33Z |
193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:32:12Z |
193奈米微影高透射率嵌附層應用於透射率控制圖罩之模擬、材料、蝕刻與性質探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:30:11Z |
193奈米高透射率嵌附層之研製與應用於橫電偏振光、偏軸發光、減光型相移圖罩組合之濕浸式微影成像特性模擬探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:29:32Z |
193奈米高透射率嵌附層之研製與作為濕浸式微影光學鄰近效應修正用散條之性質探討
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龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:57:24Z |
以全條減光散條及陣列減光散條增進焦深改善禁止間距之模擬
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呂廷軒; 龍文安 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:47:02Z |
以散條增進焦深與改善禁止間距之模擬及全條減光散條之製備
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胡繼仁; 龍文安 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:31:26Z |
多孔性低介材SiOC研究與探討
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陳尹川; Chen Yin-chuan; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:31:26Z |
193奈米微影用鉬矽氧氮高透射率嵌附式減光型相移圖罩材質之研究
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張曜宇; Chang Yao-yu; 龍文安; Dr. Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:31:26Z |
高密度電漿化學氣相沉積製備低介材SiOC:H 之薄膜特性研究
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蔡元浩; Tsai Yuan-hau; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
以實驗設計法探討高透射率減光型相移圖罩最適化
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林賢雲; Lin Hsien-yun; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
氮化鈦薄膜與低介材HSQ應用於銅金屬製程之性質研究
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鄭淳元; Cheng Chun-yuan; 龍文安; Dr. Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
鉬矽氧嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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陳玉蓉; Chen Yu-rung; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:29:01Z |
氮電漿處理低介材HSQ應用於銅金屬製程之薄膜特性研究
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陳建帆; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:26:11Z |
193奈米微影用正規與高透射率嵌附層材料之探討及減光型相移圖罩應用之模擬
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林政旻; Cheng-ming Lin; 龍文安; Dr. Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:21:34Z |
鉻矽氮類嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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呂奎亮; Leu Kwei-liang; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:40Z |
鋁氧氮嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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蘇炳聖; Su, Bing-Sheng; 莊亨立; 龍文安; Henry Tan; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:40Z |
鉻鋁氧類及氮化矽類嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
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張克文; Chang, Keh-Wen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:39Z |
應用光學鄰近效應修正與實驗設計法於製程寬容度最適化
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曾秀平; Zeng, Xiu-Ping; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:13Z |
深紫外光化學放大阻劑性質探討
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蘇丁泰; Sue, Din-Tai; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
鈦矽氧類嵌附減光式相移圖罩之研製與模擬
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陳志葦; Chen, Chih-Wei; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
電子束微影鄰近效應參數測定與鄰近效應修正之研究
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吳玫真; Wu, Mei-Jen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:58Z |
248奈米深紫外光微影成像製程寬容度最適化
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陸震偉; Lu,Chen-wei; 莊亨立; 龍文安; Dr. Henry Tan; Dr. Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:11Z |
應用光學近距效應修正之減光式相移光罩搭配環形偏軸發光與傳統發光最適化模擬與研究
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林仁章; Lin, Ren-Jang; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:14:09Z |
環形偏軸發光與調細式相移光罩最適化模擬與應用
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曾金池; Jin-chi Tseng; 龍文安; Wen-an Loong |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:14:08Z |
嵌附調細式相移光罩之研製與模擬
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陳子清; Tzu-ching Chen; 龍文安; Wen-an Loong |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:40Z |
石英蝕刻調細式相移光罩之模擬與研製
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林雍秩; Lin Yung-chih; 龍文安; Dr.Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:39Z |
緣邊式相移光罩之模擬與研製
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葉青樺; Yeh Chin-hwa; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:11:29Z |
Study on anew type phase shifting mask for 0.35μm pattern transfer
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周岳霖; Zhou, Yue-Lin; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:53Z |
次微米鉻膜及相轉移光罩之研究
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郭貴琦; Guo, Guey Chi; 龍文安; Loong, Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:52Z |
0.35 微米新型相轉移光罩之研究
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周岳霖; Chou,Yueh Lin; 龍文安; Loong,Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
矽氧化物之氧電漿改質
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許保陽; Xu, Bao-Yang; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
Plasma etching of Si and polycrystalline silicon with CCl□ F and its mixture gases
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王芳崇; Wang, Fang-Chong; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:56Z |
運用氫電漿前處理對離子植入負型阻劑之氧電漿清除的探討
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林璧君; LIN, BI-JUN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:55Z |
以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻
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王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:51Z |
矽氧化物之氧電漿改質
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許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:48Z |
以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻
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劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
