| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:40Z |
鉻鋁氧類及氮化矽類嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
|
張克文; Chang, Keh-Wen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:19:39Z |
應用光學鄰近效應修正與實驗設計法於製程寬容度最適化
|
曾秀平; Zeng, Xiu-Ping; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:13Z |
深紫外光化學放大阻劑性質探討
|
蘇丁泰; Sue, Din-Tai; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
鈦矽氧類嵌附減光式相移圖罩之研製與模擬
|
陳志葦; Chen, Chih-Wei; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:18:12Z |
電子束微影鄰近效應參數測定與鄰近效應修正之研究
|
吳玫真; Wu, Mei-Jen; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:17:58Z |
248奈米深紫外光微影成像製程寬容度最適化
|
陸震偉; Lu,Chen-wei; 莊亨立; 龍文安; Dr. Henry Tan; Dr. Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:16:11Z |
應用光學近距效應修正之減光式相移光罩搭配環形偏軸發光與傳統發光最適化模擬與研究
|
林仁章; Lin, Ren-Jang; 龍文安; Loong, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:14:09Z |
環形偏軸發光與調細式相移光罩最適化模擬與應用
|
曾金池; Jin-chi Tseng; 龍文安; Wen-an Loong |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:14:08Z |
嵌附調細式相移光罩之研製與模擬
|
陳子清; Tzu-ching Chen; 龍文安; Wen-an Loong |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:40Z |
石英蝕刻調細式相移光罩之模擬與研製
|
林雍秩; Lin Yung-chih; 龍文安; Dr.Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:39Z |
緣邊式相移光罩之模擬與研製
|
葉青樺; Yeh Chin-hwa; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:11:29Z |
Study on anew type phase shifting mask for 0.35μm pattern transfer
|
周岳霖; Zhou, Yue-Lin; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:53Z |
次微米鉻膜及相轉移光罩之研究
|
郭貴琦; Guo, Guey Chi; 龍文安; Loong, Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:52Z |
0.35 微米新型相轉移光罩之研究
|
周岳霖; Chou,Yueh Lin; 龍文安; Loong,Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
矽氧化物之氧電漿改質
|
許保陽; Xu, Bao-Yang; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
Plasma etching of Si and polycrystalline silicon with CCl□ F and its mixture gases
|
王芳崇; Wang, Fang-Chong; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:56Z |
運用氫電漿前處理對離子植入負型阻劑之氧電漿清除的探討
|
林璧君; LIN, BI-JUN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:55Z |
以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻
|
王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:51Z |
矽氧化物之氧電漿改質
|
許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:48Z |
以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻
|
劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:44Z |
氮化鈦薄膜做為次微米微影成像抗反射層之性質與影響
|
邱國鼎; QIU,GUO-DING; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氧電漿氧化砷化鎵所生成之氧化層做為抗反射層及原位光罩
|
張宏隆; ZHANG,HONG-LONG; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氫電漿前處理強化氧電漿對離子植入負型阻劑之清除
|
顏明碩; YAN,MING-SHUO; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
交聯反應對乾式顯影表面選擇性強化之影響
|
朱政宇; ZHU,ZHENG-YU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
單層阻劑以鉀離子與矽化物進行物進行乾式顯影表面選擇性強化之機理探討
|
王嘉蓮; WANG,JIA-LIAN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
