| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:12:39Z |
緣邊式相移光罩之模擬與研製
|
葉青樺; Yeh Chin-hwa; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:11:29Z |
Study on anew type phase shifting mask for 0.35μm pattern transfer
|
周岳霖; Zhou, Yue-Lin; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:53Z |
次微米鉻膜及相轉移光罩之研究
|
郭貴琦; Guo, Guey Chi; 龍文安; Loong, Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:52Z |
0.35 微米新型相轉移光罩之研究
|
周岳霖; Chou,Yueh Lin; 龍文安; Loong,Wen An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
矽氧化物之氧電漿改質
|
許保陽; Xu, Bao-Yang; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:10:06Z |
Plasma etching of Si and polycrystalline silicon with CCl□ F and its mixture gases
|
王芳崇; Wang, Fang-Chong; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:56Z |
運用氫電漿前處理對離子植入負型阻劑之氧電漿清除的探討
|
林璧君; LIN, BI-JUN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:55Z |
以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻
|
王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:51Z |
矽氧化物之氧電漿改質
|
許保陽; XU, BAO-YANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:09:48Z |
以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻
|
劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:44Z |
氮化鈦薄膜做為次微米微影成像抗反射層之性質與影響
|
邱國鼎; QIU,GUO-DING; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氧電漿氧化砷化鎵所生成之氧化層做為抗反射層及原位光罩
|
張宏隆; ZHANG,HONG-LONG; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
以氫電漿前處理強化氧電漿對離子植入負型阻劑之清除
|
顏明碩; YAN,MING-SHUO; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
交聯反應對乾式顯影表面選擇性強化之影響
|
朱政宇; ZHU,ZHENG-YU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:43Z |
單層阻劑以鉀離子與矽化物進行物進行乾式顯影表面選擇性強化之機理探討
|
王嘉蓮; WANG,JIA-LIAN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
CCl F 及CHF 氣體在活性離子蝕刻系統中對Si及SiO 表面之蝕刻及成膜行為
|
陳俊麟; CHEN,JUN-LIN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
Poly(tutene-1 sulfone)作為深紫外光正型阻劑及其氮電漿表面改質之研究
|
張憲武; ZHANG,XIAN-WU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:14Z |
酸性硬金的槽液組成及光澤劑之研究
|
林淙敏; LIN,CHONG-MIN; 龍文安; 林均輝; LONG,WEN-AN; LIN,JUN-HUI |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:56Z |
減光型相移圖罩材質研究與二孔偏軸發光成像模擬
|
林志鴻; Lin Chih-hung; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:47Z |
微影成像對比加強材料性質之直接模擬
|
潘鴻賜; PAN,HONG-SI; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:47Z |
經鉀溶液處理以強化表面抗氧活性離子蝕刻之單層乾式顯影
|
蘇安娜; SU,AN-NA; 龍文安; LONG.WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:43Z |
銦砷化鎵光導開關式光偵測器之研製
|
林智勇; LIN,ZHI-YONG; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:21Z |
Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究
|
王清帆; Wang, Qing-Fan; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:07Z |
微影成像影像倒置製程之研究
|
林煌崑; LIN, HUANG-KKUN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:06Z |
Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究
|
王清帆; WANG, GING-FAN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
