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"龍文安"
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| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
CCl F 及CHF 氣體在活性離子蝕刻系統中對Si及SiO 表面之蝕刻及成膜行為
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陳俊麟; CHEN,JUN-LIN; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:42Z |
Poly(tutene-1 sulfone)作為深紫外光正型阻劑及其氮電漿表面改質之研究
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張憲武; ZHANG,XIAN-WU; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:08:14Z |
酸性硬金的槽液組成及光澤劑之研究
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林淙敏; LIN,CHONG-MIN; 龍文安; 林均輝; LONG,WEN-AN; LIN,JUN-HUI |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:56Z |
減光型相移圖罩材質研究與二孔偏軸發光成像模擬
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林志鴻; Lin Chih-hung; 龍文安; Loong Wen-an |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:47Z |
微影成像對比加強材料性質之直接模擬
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潘鴻賜; PAN,HONG-SI; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:47Z |
經鉀溶液處理以強化表面抗氧活性離子蝕刻之單層乾式顯影
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蘇安娜; SU,AN-NA; 龍文安; LONG.WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:07:43Z |
銦砷化鎵光導開關式光偵測器之研製
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林智勇; LIN,ZHI-YONG; 龍文安; LONG,WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:21Z |
Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究
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王清帆; Wang, Qing-Fan; 龍文安; Long, Wen-An |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:07Z |
微影成像影像倒置製程之研究
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林煌崑; LIN, HUANG-KKUN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:06:06Z |
Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究
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王清帆; WANG, GING-FAN; 龍文安; LONG, WEN-AN |
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