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淡江大學	2003-09-18	Density functional study of gas–surface reactivity: GeH4 dissociative adsorption onto semiconductor surfaces	林志興; Lin, Jyh-shing; Chou, Wien-chi
淡江大學	2003-06	Density functional study of the effect of SiH4/GeH4 and Si(001)/Ge(001) on gas-surface reactivity during Initial dissociative adsorption	Lin, Jyh-Shing; Lee, Lien-Feng; Chou, Wien-Chi; Lin, Jyh-Shing

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