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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2019-10-05T00:08:44Z	Interface Engineering Strategy Utilizing Electrochemical ALD of Cu-Zn for Enabling Metallization of Sub-10 nm Semiconductor Device Nodes	Joi, Aniruddha; Venkatraman, Kailash; Tso, Kuang-Chih; Dictus, Dries; Dordi, Yezdi; Wu, Pu-Wei; Pao, Chih-Wen; Akolkar, Rohan

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