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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:47:13Z	HRTEM and EFTEM studies of the evolution of Cu/Ta/SiO2/Si interfaces in ULSI devices	Yin, KM; Chang, L; Chen, FR; Kai, JJ; Chuang, CCCG; Shen, CF; Lo, SC; Ding, P; Chin, B; Zhang, H; Chen, F

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