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國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 氨氣預處理及不同後續退火技術改善銫金屬氧化層之研究 洪燕萍; Yen-ping Hung; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:28:05Z 四氟化碳電漿處理改善閘極絕緣層特性在MOS元件之研究 陳筱薇; Hsiao-Wei Chen; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:23:24Z 利用氟和/或氮離子佈植於矽化鈷堆疊閘極氧化層之特性研究 郭立民; Lim-Min Guo; 雷添福; 楊賜麟; Dr. Tan-Fu Lei; Dr. Su-Lin Yang
國立交通大學 2014-12-12T02:23:13Z 利用 N2O 與 N2 氣體快速加熱氮化於 PECVD TEOS閘極氧化層及複晶矽氧化層之研究 朱浚學; Juing-Shae Chu; 雷添福; 李崇仁; Dr. Tan-Fu Lei; Dr. Chung-Len Lee
國立交通大學 2014-12-12T02:17:36Z 分裂閘極式可抹除編寫記憶晶胞之編寫能力特性研究 楊理揚; YANG, LI-YANG; 雷添福; Dr. Tan-Fu Lei
國立交通大學 2014-12-12T02:15:38Z 化學機械研磨機對複晶矽氧化層之應用 蕭世楹; Shiau, Shyh Yin; 雷添福; Dr. Tan Fu Lei

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