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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-12T03:06:32Z	不同高介電常數與傳統低溫介電層應用於低溫複晶矽薄膜電晶體之比較	呂宜憲; Yi-Hsien Lu; 趙天生; 簡昭欣; Dr. Tien-Sheng Chao; Dr. Chao-Hsin Chien
國立交通大學	2014-12-12T02:25:38Z	閘極結構對矽在絕緣層上動態啟始電壓N型金氧半場效電晶體的影響	羅文政; Wen-Cheng Lo; 張俊彥; 趙天生; Dr. Chun-Yen Chang; Dr. Tien-Sheng Chao
國立交通大學	2014-12-12T02:20:46Z	製程參數對複晶矽TEOS介電層特性之影響	盧文泰; Wen-Tai Lu; 黃調元; 趙天生; Dr. Tiao-Yuan Huang; Dr. Tien-Sheng Chao

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