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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2024-09	Spin coating high-k multicomponent (Al,Ti,V,Zr,Hf)Ox films with sub-nm EOT for MOS-based electronic devices	Wang;Yu-Chen;Nguyen;Dung, Van;Chang;Kao-Shuo
國立成功大學	2023-09	High-throughput methodology for the realization of high-entropy sub-nm equivalent-oxide-thickness high-dielectric-constant Ba(Ti,Zr,Ta,Hf,Mo)O3 film-based metal-oxide-semiconductor-related devices	Nguyen;Dung, Van;Nagata;Takahiro;Chang;K, -S.

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