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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2022-08-09T03:50:32Z	5 nm ruthenium thin film as a directly plateable copper diffusion barrier	Arunagiri T.N.; Zhang Y.; Chyan O.; El-Bouanani M.; Kim M.J.; Chen K.H.; Wu C.T.; Chen L.C.; Arunagiri T.N.; Zhang Y.; Chyan O.; El-Bouanani M.; Kim M.J.; Chen K.H.; Wu C.T.; Chen L.C.; LI-CHYONG CHEN
國立臺灣大學	2005-02	5 nm Ruthenium Thin Film as a Directly Plateable Copper Diffusion Barrier	Arunagiri, TN; Zhang, Y; Chyan, O; El-Bouanani, M; Kim, MJ; Chen, KH; Wu, CT; Chen, LC

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