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机构 日期 题名 作者
國立中山大學 2007 Nickel nanocrystals with HfO2 blocking oxide for Nonvolatile Memory Application F.M. Yang;T.C. Chang;P.T. Liu;P.H. Yen;Y.C. Yu;J.Y. Lin;S.M. Sze;J.C. Lou
國立中山大學 2007 Nickel silicide nanocrystals embedded in SiO2 and HfO2 for Nonvolatile Memory Application F.M. Yang;T.C. Chang;P.T. Liu;P.H. Yen;Y.C. Yu;J.Y. Lin;S.M. Sze;J.C. Lou
國立中山大學 2005 Damage effect of fluorine implantation on PECVD alpha-SiOC barrier dielectric F.M. Yang;T.C. Chang;P.T. Liu;C.W. Chen;Y.H. Tai;J.C. Lou
國立中山大學 2005 Memeory effect of oxide/ oxygen-incorporated silicon carbide/ oxide sandwiched structure T.C. Chang;P.T. Liu;S.T. Yan;F.M. Yang;S.M. Sze
國立中山大學 2004 Memory effect of oxide/SiC:O/Oxide sandwidthed structures T.C. Chang;S.T. Yan;F.M. Yang;P.T. Liu;S.M. Sze

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