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机构	日期	题名	作者
國立臺灣大學	2001	Negative-tone cycloolefin photoresist for 193-nm lithography	Fu, ShihChi; Hsieh, Kuo-Huang; Wang, Lon A.
臺大學術典藏	2001	Negative-tone cycloolefin photoresist for 193-nm lithography	Fu, Shihchi; Hsieh, Kuo-Huang; Wang, Lon A.; Fu, ShihChi; Hsieh, Kuo-Huang; Wang, Lon A.

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