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机构	日期	题名	作者
中原大學	1999	Reactive Ion Etching of Ir Films with a TiN Mask in Ar/O2/BCl3 Helicon Wave Plasma	T.C.Wei;M.C.Chiang;F.M.Pan;T.P.Liu;B.T.Dai;H.C.Chien;

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