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機構 日期 題名 作者
國立臺灣大學 1999 Fluorinated thin gate oxides prepared by room temperature deposition followed by furnace oxidation Yeh, Kuo-Lang; Jeng, Ming-Jer; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1999 Improvement in the electrical properties of thin gate oxides bychemical-assisted electron stressing followed by annealing (CAESA) Shih, Yen-Hao; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1997-06 Analog maximum, median and minimum circuit Liu, Shen-Iuan; Chen, Poki; Chen, Chin-Yang; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1996 Rapid thermal post-metallization annealing effect on thin gate oxides Jeng, Ming-Jer; Lin, Huang-Shen; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1996 Application of irradiation-then-nitridation to improve the radiation hardness in MOS gate dielectrics Lee, Kuo-Chung; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1996 Process control of rapid thermal N2O-annealed thin gate oxides Huang, Yi-Zen; Lu, Wei-Shin; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1996 複合式半導體微型壓力感測計之研究(總計畫) 呂學士; 胡振國; 張培仁; Lu, Shey-Shi; Hwu, Jenn-Gwo; Chang, Pei-Zen
國立臺灣大學 1995 Improvement in reliability of n-MOSFETs by using rapid thermal N2O-reoxidized nitrided gate oxides Wu, You-Lin; Wu, Zhao-Yin; Hwu, Jenn-Gwo
國立臺灣大學 1995 Aspect Ratio Effect on the Radiation Hardness of CMOS Inverters 胡振國; Jeng, M. J.; Hwu, Jenn-Gwo; Jeng, M. J.
國立臺灣大學 1995 Improvement in Reliability of n-MOSFETs by Using Rapid Thermal N20- Reoxidized Gate Oxides 胡振國; Wu, Y. L.; Wu, Z. Y.; Hwu, Jenn-Gwo; Wu, Y. L.; Wu, Z. Y.

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