臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Breakdown Behavior of 40-nm PD-SOI NMOS Device Considering STI-Induced Mechanical Stress Effect	I. S. Lin;V. C. Su;J. B. Kuo;D. Chen;C. S. Yeh;C. T. Tsai;M. Ma; I. S. Lin; V. C. Su; J. B. Kuo; D. Chen; C. S. Yeh; C. T. Tsai; M. Ma; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Breakdown Behavior of 40-nm PD-SOI NMOS Device Considering STI-Induced Mechanical Stress Effect	I. S. Lin;V. C. Su;J. B. Kuo;D. Chen;C. S. Yeh;C. T. Tsai;M. Ma; I. S. Lin; V. C. Su; J. B. Kuo; D. Chen; C. S. Yeh; C. T. Tsai; M. Ma; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Shallow-trench-isolation (STI)-induced mechanical-stress-related kink-effect behaviors of 40-nm PD SOI NMOS device	I. S. Lin;V. C. Su;J. B. Kuo;R. Lee;G. S. Lin;D. Chen;C. S. Yeh;C. T. Tsai;M. Ma; I. S. Lin; V. C. Su; J. B. Kuo; R. Lee; G. S. Lin; D. Chen; C. S. Yeh; C. T. Tsai; M. Ma; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Shallow-trench-isolation (STI)-induced mechanical-stress-related kink-effect behaviors of 40-nm PD SOI NMOS device	I. S. Lin;V. C. Su;J. B. Kuo;R. Lee;G. S. Lin;D. Chen;C. S. Yeh;C. T. Tsai;M. Ma; I. S. Lin; V. C. Su; J. B. Kuo; R. Lee; G. S. Lin; D. Chen; C. S. Yeh; C. T. Tsai; M. Ma; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Analysis of STI-induced mechanical stress-related Kink effect of 40 nm PD SOI NMOS devices biased in saturation region	I. S. Lin;J. B. Kuo; I. S. Lin; J. B. Kuo; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	Analysis of STI-induced mechanical stress-related Kink effect of 40 nm PD SOI NMOS devices biased in saturation region	I. S. Lin;J. B. Kuo; I. S. Lin; J. B. Kuo; JAMES-B KUO
臺大學術典藏	2018-09-10T07:08:18Z	STI-Induced Mechanical-Stress-Related Kink Effect of 40nm PD SOI NMOS Devices	I. S. Lin; V. C. Su; J. B. Kuo; D. Chen; C. S. Yeh; C. T. Tsai; M. Ma; JAMES-B KUO

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