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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2015-07-21T11:20:48Z	Advanced Cu chemical displacement technique for SiO2-based electrochemical metallization ReRAM application	Chin, Fun-Tat; Lin, Yu-Hsien; You, Hsin-Chiang; Yang, Wen-Luh; Lin, Li-Min; Hsiao, Yu-Ping; Ko, Chum-Min; Chao, Tien-Sheng

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