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機構	日期	題名	作者
臺大學術典藏	2004	Enhanced Extreme Ultraviolet Lithography Mask Inspection Contrast Using Fabry-Perot Type Antireflective Coating	Chu, Tieh-Chi; Ko, Fu-Hsiang; Lai, Lee-Jene; Ko, Tsung-Shine; Chen, Hsuen-Li; Cheng, Hsu-Chun; Chen, Hsuen-Li; Ko, Tsung-Shine; Lai, Lee-Jene; Ko, Fu-Hsiang; Chu, Tieh-Chi; Cheng, Hsu-Chun

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