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機構	日期	題名	作者
東海大學	2009	Electrical Characteristics of Al2O3/TiO2/Al2O3 Nanolaminate MOS Capacitor on p-GaN With Post Metallization Annealing and (NH4)2SX Treatments	Ko-Tao Lee, Chih-Fang Huang, Jeng Gong, and Bo-Heng Liou

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