臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:05Z	Accuracy improvement of electrical characteristics estimation for sub-20nm FDSOI devices with non-rectangular gates	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Chien-Lin Lee;Xin-Yang Zheng;Sheng-Wei Chien;Jia-Syun Cai; Jia-Syun Cai; Sheng-Wei Chien; Xin-Yang Zheng; Chien-Lin Lee; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:05Z	Accuracy improvement of electrical characteristics estimation for sub-20nm FDSOI devices with non-rectangular gates	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Chien-Lin Lee;Xin-Yang Zheng;Sheng-Wei Chien;Jia-Syun Cai; Jia-Syun Cai; Sheng-Wei Chien; Xin-Yang Zheng; Chien-Lin Lee; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:04Z	Simulation-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:04Z	Simulation-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:04Z	Simulation-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:04Z	Simulation-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:03Z	Model-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:03Z	Model-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:03Z	Model-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI
臺大學術典藏	2019-10-31T07:58:03Z	Model-based proximity effect correction for helium ion beam lithography	KUEN-YU TSAI;Kuen-Yu Tsai;Sheng-Wei Chien;Chien-Lin Lee; Chien-Lin Lee; Sheng-Wei Chien; Kuen-Yu Tsai; KUEN-YU TSAI

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