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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2017-04-21T06:49:29Z	Nanosized-Metal-Grain-Induced Characteristic Fluctuation in Gate-All-Around Si Nanowire Metal-Oxide-Semiconductor Devices	Lai, Chun-Ning; Chen, Chien-Yang; Li, Yiming
國立交通大學	2017-04-21T06:48:19Z	Process Variation Effect, Metal-Gate Work-Function Fluctuation and Random Dopant Fluctuation of 10-nm Gate-All-Around Silicon Nanowire MOSFET Devices	Li, Yiming; Chang, Han-Tung; Lai, Chun-Ning; Chao, Pei-Jung; Chen, Chieh-Yang

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