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機構	日期	題名	作者
臺大學術典藏	2021-11-04T01:31:28Z	Parameters Analysis of Chemical Mechanical Polishing: An Investigation based on the Pattern Planarization Model	Chen, Dar-Zen; Lee, Bor-Shin; DAR-ZEN CHEN
臺大學術典藏	2021-11-04T01:31:28Z	On the Polishing Kinematics of CMP	Lee, Bor-Shin; Chen, Dar-Zen; DAR-ZEN CHEN

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