臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:06Z	Nature and application of particulate matter produced by pulsed laser ablation	Chen Li-Chyong; Hall Ernest L.; Chen Li-Chyong; Hall Ernest L.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:06Z	Grain growth in microcrystalline materials studied by calorimetry	Chen L.C.; Spaepen F.; Chen L.C.; Spaepen F.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:06Z	Dilatometric analysis of sintering of tungsten and tungsten with ceria and hafnia dispersions	Chen L.C.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:06Z	A comment on the use of calorimetry for the determination of the structure of amorphous materials	Johari1 G.P.; Ram S.; Chen L.-C.; Spaepen F.; Johari1 G.P.; Ram S.; Chen L.-C.; Spaepen F.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:05Z	Erratum: "The number of third-order elastic constants of an icosahedral solid" (Journal of Applied Physics (1986) 60 (2638))	Chen L.C.; Ebalard S.; Goldman L.M.; Ohashi W.; Park B.; Spaepen F.; Chen L.C.; Ebalard S.; Goldman L.M.; Ohashi W.; Park B.; Spaepen F.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:05Z	Comparative study of microstructural evolution during consolidation of tungsten with ceria and hafnia additions	Chen L.C.; Lou K.A.; Bewlay B.P.; Chen L.C.; Lou K.A.; Bewlay B.P.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:05Z	Microstructural evolution and densification kinetics during sintering of oxide-dispersed tungsten alloys	Chen Li-Chyong; Bewlay Bernard P.; Chen Li-Chyong; Bewlay Bernard P.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:04Z	Local stress assessment of CVD diamond with micro-raman spectroscopy up to 1200K	Chen Li-Chyong; Chen Kuei-Hsien; Lai Yen-Liang; Wu Jin-Yu; Chen Li-Chyong; Chen Kuei-Hsien; Lai Yen-Liang; Wu Jin-Yu; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:04Z	High-temperature Raman study in CVD diamond	Chen K.-H.; Lai Y.-L.; Chen L.-C.; Wu J.-Y.; Kao F.-J.; Chen K.-H.; Lai Y.-L.; Chen L.-C.; Wu J.-Y.; Kao F.-J.; LI-CHYONG CHEN
臺大學術典藏	2022-08-09T03:51:03Z	Formation of crystalline silicon carbon nitride films by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition	Chen L.C.; Yang C.Y.; Bhusari D.M.; Chen K.H.; Lin M.C.; Lin J.C.; Chuang T.J.; Chen L.C.; Yang C.Y.; Bhusari D.M.; Chen K.H.; Lin M.C.; Lin J.C.; Chuang T.J.; LI-CHYONG CHEN

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