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機構 日期 題名 作者
國立成功大學 2019-04-23 摻雜對於電阻式記憶體元件之金屬氧化物薄膜的物性影響之研究 李思賢; Li, Sih-Sian
國立成功大學 2015-05-07 Post-annealing effect on the room-temperature ferromagnetism in Cu-doped ZnO thin films Hu, Yu-Min; Li, Sih-Sian; Kuang, Chein-Hsiun; Han, Tai-Chun; Yu, Chin-Chung
國立高雄大學 2010-08-06 過渡金屬摻雜對於稀磁性氧化物薄膜之物性影響研究 李思賢; Li, Sih-Sian

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