臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

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机构	日期	题名	作者
國立成功大學	2002-02	Effects of interfacial oxide layer for the Ta2O5 capacitor after high-temperature annealing	Lee, Jiann-Shing; Sun, Shi-Chung; Chang, Shoou-Jinn; Chen, Jone F.; Liu, Chun-Hsing; Liaw, Heay-Liaw

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