臺灣學術機構典藏系統 (Taiwan Academic Institutional Repository, TAIR)

關於TAIR
	計畫說明

瀏覽
	典藏機構
	作者
	題名
	日期
	統計圖表
	機構即時統計
	學術趨勢

消息
	2019臺灣學術機構典藏研討會
	機構典藏系統RC7版本已發佈

著作權
	出版社及期刊政策查詢
	TAIR著作權會議記錄

相關連結
	機構典藏計畫網站
	ROAR
	OpenDOAR
	SHERPA
	OAIster
	JAIRO
	Ira
	DSPACE
	RWWR
	臺大學術典藏NTU Scholars

"maikap s"的相關文件

回到依作者瀏覽
依題名排序	依日期排序

顯示項目 11-35 / 37 (共2頁)
1 2 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目

機構	日期	題名	作者
臺大學術典藏	2018-09-10T05:23:45Z	Mobility-enhancement technologies	Liu, C.W.; Maikap, S.; Yu, C.-Y.; Liu, Chee Wee
臺大學術典藏	2018-09-10T05:21:15Z	MBE-grown high $κ$ gate dielectrics of HfO 2 and (Hf-Al) O 2 for Si and III-V semiconductors nano-electronics	Lee, WC; Lee, YJ; Wu, YD; Chang, P; Huang, YL; Hsu, YL; Mannaerts, JP; Lo, RL; Chen, FR; Maikap, S; others; Lee, WC; Lee, YJ; Wu, YD; Chang, P; Huang, YL; Hsu, YL; Mannaerts, JP; Lo, RL; Chen, FR; Maikap, S; others; MINGHWEI HONG
臺大學術典藏	2018-09-10T05:21:10Z	Department of Materials Science and Engineering, National Tsing Hua University, Hsin Chu, 300, Taiwan	Lee, WC; Lee, YJ; Wu, YD; Chang, P; Huang, YL; Hsu, YL; Mannaerts, JP; Lo, RL; Chen, FR; Maikap, S; others; Lee, WC; Lee, YJ; Wu, YD; Chang, P; Huang, YL; Hsu, YL; Mannaerts, JP; Lo, RL; Chen, FR; Maikap, S; others; MINGHWEI HONG
臺大學術典藏	2018-09-10T04:55:30Z	BICMOS devices under mechanical strain	Liu, C.W.;Maikap, S.;Liao, M.H.;Yuan, F.;Lee, M.H.; Liu, C.W.; Maikap, S.; Liao, M.H.; Yuan, F.; Lee, M.H.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2018-09-10T04:55:29Z	Ge outdiffusion effect on flicker noise in strained-Si nMOSFETs	Hua, W.-C.; Lee, M.H.; Chen, P.S.; Maikap, S.; Liu, C.W.; Chen, K.M.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2018-09-10T04:55:28Z	Package-strain-enhanced device and circuit performance	Maikap, S.;Liao, M.H.;Yuan, F.;Lee, M.H.;Huang, C.-F.;Chang, S.T.;Liu, C.W.; Maikap, S.; Liao, M.H.; Yuan, F.; Lee, M.H.; Huang, C.-F.; Chang, S.T.; Liu, C.W.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2018-09-10T04:55:28Z	Mechanically strained Si-SiGe HBTs	Yuan, F.;Jan, S.-R.;Maikap, S.;Liu, Y.-H.;Liang, C.-S.;Liu, C.W.; Yuan, F.; Jan, S.-R.; Maikap, S.; Liu, Y.-H.; Liang, C.-S.; Liu, C.W.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2018-09-10T04:55:27Z	Post deposition annealing effects on the reliability of ALD HfO2 films on strained-Si0.8Ge0.2 layers	Tzeng, P.J.;Maikap, S.;Lai, W.Z.;Liang, C.S.;Chen, P.S.;Lee, L.S.;Liu, C.W.; Tzeng, P.J.; Maikap, S.; Lai, W.Z.; Liang, C.S.; Chen, P.S.; Lee, L.S.; Liu, C.W.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2018-09-10T04:33:14Z	Comprehensive Low-Frequency and RF Noise Characteristics in Strained-Si NMOSFETs	Chen, P.S.; Hua, W.-C.; Yu, C.-Y.; Tseng, Y.T.; Maikap, S.; Hsu, Y.M.; Liu, C.W.; Lu, S.C.; Hsieh, W.-Y.; Tsai, M.-J.; Lee, M.H.; CHEE-WEE LIU et al.
國立臺灣大學	2012	Improved Resistive Switching Memory Characteristics Using Core-Shell IrOx Nano-Dots in Al2O3/WOx Bilayer Structure	Banerjee, W.; Maikap, S.; Rahaman, S.Z.; Prakash, A.; Tien, T.-C.; Li, W.-C.; Yang, J.-R.
國立臺灣大學	2011	Impact of metal nano layer thickness on tunneling oxide and memory performance of core-shell iridium-oxide nanocrystals	Banerjee, W.; Maikap, S.; Tien, T.-C.; Li, W.-C.; Yang, J.-R.
國立臺灣大學	2011	Temperature-Dependent Physical and Memory Characteristics of Atomic-Layer-Deposited RuOx Metal Nanocrystal Capacitors	Maikap, S.; Banerjee, W.; Tien, T.C.; Wang, T.Y.; Yang, J.R.
國立臺灣大學	2010	Ruthenium oxide metal nanocrystal capacitors with high-kappa dielectric tunneling barriers for nanoscale nonvolatile memory device applications	Das, Atanu; Maikap, S.; Lin, C.-H.; Tzeng, P.-J.; Tien, T.-C.; Wang, T.-Y.; Chang, L.-B.; Yang, J.-R.; Tsai, M.-J.
國立臺灣大學	2007	Charge trapping characteristics of atomic-layer-deposited HfO2 films with Al2O3 as a blocking oxide for high-density non-volatile memory device applications	Maikap, S.; Lee, H.Y.; Wang, T.Y.; Tzeng, P.J.; Wang, C.C.; Lee, L.S.; Liu, K.C.; Yang, J.R.; Tsai, M.J.
國立臺灣大學	2007	Band offsets and charge storage characteristics of atomic layer deposited high-k HfO2/TiO2 multilayers	Maikap, S.; Wang, T.Y.; Tzeng, P.J.; Lin, C.H.; Tien, T. C.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M.J.
國立臺灣大學	2007	Charge storage characteristics of atomic layer deposited RuOx nanocrystals	Maikap, S.; Wang, T. Y.; Tzeng, P. J.; Lin, C. H.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M. J.
國立臺灣大學	2007	HfO2/HfAlO/HfO2 nanolaminate charge trapping layers for high-performance nonvolatile memory device applications	Maikap, S.; Tzeng, P. J.; Wang, T. Y.; Lee, H. Y.; Lin, C. H.; Wang,? C. C.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M. J.
國立臺灣大學	2007	Hole mobility enhancement of Si0.2Ge0.8 quantum well channel on Si	Peng, C.-Y.; Yuan, F.; Yu, C.-Y.; Kuo, P.-S.; Lee, M. H.; Maikap, S.; Hsu, C.-H.; Liu, C. W.
國立臺灣大學	2006	Hole confinement at Si/SiGe heterojunction of strained-Si N and PMOS devices	Wei, J.-Y.; Maikap, S.; Lee, M.H.; Lee, C.C.; Liu, C.W.
國立臺灣大學	2006	Hole confinement at Si/SiGe heterojunction of strained-Si N and PMOS devices	Wei, J.-Y.; Maikap, S.; Lee, M.H.; Lee, C.C.; Liu, C.W.
國立臺灣大學	2005-05	Recent Progress in Mobility-enhancement Technologies	Liu, C. W.; Maikap, S.; Yu, C.-Y.
國立臺灣大學	2005	Abnormal hole mobility of biaxial strained Si	Liao, M. H.; Chang, S. T.; Lee, M. H.; Maikap, S.; Liu, C. W.
國立臺灣大學	2004-10	Ge Outdiffusion Effect on Flicker Noise in Strained-Si nMOSFETs	Hua, W.C.; Lee, M.H.; Chen, P.S.; Maikap, S.; Liu, C.W.; Chen, K.M.
國立臺灣大學	2004	Mechanically strained Si/SiGe HBTs	Yuan, F.; Jan, S.-R.; Maikap, S.; Liu, Y.-H.; Liang, C.-S.; Liu, C.W.
國立臺灣大學	2004	Mechanically strained strained-Si NMOSFETs	Maikap, S.; Yu, C.-Y.; Jan, S.-R.; Lee, M.H.; Liu, C.W.

顯示項目 11-35 / 37 (共2頁)
1 2 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目

	English \| 正體中文 \| 简体中文 \| 總筆數 :2826208
	造訪人次 : 31847942 線上人數 : 3927 教育部委託研究計畫計畫執行:國立臺灣大學圖書館