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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-12T01:40:20Z	利用接觸蝕刻停止層以及下凹式源極和汲極對電晶體載子遷移率提升之研究	穆政昌; Mu, Zheng-Chang; 趙天生; Chao, Tien-Sheng
國立交通大學	2014-12-08T15:37:52Z	High Tensile Stress with Minimal Dopant Diffusion by Low Temperature Microwave Anneal	Lee, Yao-Jen; Lu, Yu-Lun; Mu, Zheng-Chang; Hsueh, Fu-Kuo; Chao, Tien-Sheng; Wu, Ching-Yi

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