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机构	日期	题名	作者
臺大學術典藏	2010	Halo profile engineering to reduce Vt fluctuation in high-K/metal-gate nMOSFET	Chen, W.-Y.;Yu, T.-H.;Ohtou, T.;Sheu, Y.-M.;Wu, J.;Liu, C.; Chen, W.-Y.; Yu, T.-H.; Ohtou, T.; Sheu, Y.-M.; Wu, J.; Liu, C.; CHEE-WEE LIU
臺大學術典藏	2010	Halo profile engineering to reduce Vt fluctuation in high-K/metal-gate nMOSFET	Chen, W.-Y.;Yu, T.-H.;Ohtou, T.;Sheu, Y.-M.;Wu, J.;Liu, C.; Chen, W.-Y.; Yu, T.-H.; Ohtou, T.; Sheu, Y.-M.; Wu, J.; Liu, C.; CHEE-WEE LIU

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