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機構 日期 題名 作者
國立交通大學 2019-10-05T00:08:38Z Atomic layer defect-free etching for germanium using HBr neutral beam Fujii, Takuya; Ohori, Daisuke; Noda, Shuichi; Tanimoto, Yosuke; Sato, Daisuke; Kurihara, Hideyuki; Mizubayashi, Wataru; Endo, Kazuhiko; Li, Yiming; Lee, Yao-Jen; Ozaki, Takuya; Samukawa, Seiji
國立交通大學 2019-04-02T05:58:22Z Atomic layer germanium etching for 3D Fin-FET using chlorine neutral beam Ohori, Daisuke; Fujii, Takuya; Noda, Shuichi; Mizubayashi, Wataru; Endo, Kazuhiko; Lee, En-Tzu; Li, Yiming; Lee, Yao-Jen; Ozaki, Takuya; Samukawa, Seiji

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