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机构 日期 题名 作者
南台科技大學 2001-10 Originals and effects of radical-induced re-oxidation in ultra-thin remote plasma nitrided oxides C. H. Chen; Y. K. Fang; W. T. Hsieh; S. F. Ting; M. C. Yu; M. F. Wang; C. L. Chen; L. G. Yao; S. C. Chen; C. H. Yu; M. S. Liang;陳順智;謝文哲
南台科技大學 2001-09 The Cubic Single-Crystalline Si1-x-yCxNy Films With Mirror Face Prepared By RTCVD S. F. Ting; Y. K. Fang; W. T. Hsieh; Y. S. Tsair; C. N. Chang; C. S. Lin; M. C. Hsieh; H. C. Chiang; J. J. Ho;謝文哲
南台科技大學 2001-07 The Effect of Remote Plasma Nitridation on the Integrity of the Ultrathin Gate Dielectric Films in 0. 13mm CMOS Technology and Beyond S. F. Ting; Y. K. Fang; C. H. Chen; C. W. Yang; W. T. Hsieh; J. J. Ho; M. C. Yu; S. M. Jang; C. H. Yu; M. S. Liang; S. Chen; R. Shih;謝文哲
國立臺灣海洋大學 2001-07 The Effect of Remote Plasma Nitridation on the Integrity of the Ultrathin Gate Dielectric Films in 0.13 m CMOS Technology and Beyond S.F. Ting; Y.K. Fang; C.H. Chen; C.W. Yang; W.T. Hsieh; J.J. Ho; M.C. Yu; S.M. Jang; C.H. Yu; M.S. Liang; S. Chen; R. Shih
南台科技大學 2000-02 Effects of Surface Porosity on Tungsten Trioxide(WO3) Films’ Electrochromic Performance W. J. Lee; Y. K. Fang; J. J. Ho; W. T. Hsieh; S. F. Ting; Daoyang Huang; Fang C. Ho;謝文哲
國立臺灣海洋大學 2000-02 Effects of Surface Porosity on Tungsten Trioxide (WO3) Films’Electrochromic Performance W. J. Lee; Y. K. Fang; Jyh-Jier Ho; W. T. Hsieh; S. F. Ting; Daoyang Huang; Fang C. Ho
南台科技大學 1999-12 The Dynamic Response Analysis of a Pyroelectric Thin-Film Infrared Sensor with Thermal Isolation Improvement Structure J.J. Ho; Y. K. Fang; W. J. Lee; F. Y. Chen; W. T. Hsieh; S. F. Ting; K. H. Lee; M. S. Ju; S. B. Huang; K. H. Wu; C. Y. Chen;謝文哲;林福林
國立臺灣海洋大學 1999-12 The Dynamic Response Analysis of a Pyroelectric Thin-film Infrared Sensor with Thermal Isolation Improvement Structure Jyh-Jier Ho; Y.K. Fang; W.J. Lee; F.Y. Chen; W.T. Hsieh; S.F. Ting; M.S. Ju; M.S. Ju; S.B. Huang; K.H. Wu; C.Y. Chen
南台科技大學 1999-10 Analysis of Substrate Effects on the Response of Pyroelectric Thin-Film Infrared Sensors J. J. Ho; Y. K. Fang; W. J. Lee; F. Y. Chen; W. T. Hsieh; S. F. Ting; K. H. Lee; M. C. Hsieh; C. P. Chang; K. H. Wu;謝文哲;林福林

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