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| 臺大學術典藏 |
2019-12-27T07:49:51Z |
Advances in high 庥 gate dielectrics for Si and III-V semiconductors
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Kwo, J.;Hong, M.;Busch, B.;Muller, D.A.;Chabal, Y.J.;Kortan, A.R.;Mannaerts, J.P.;Yang, B.;Ye, P.;Gossmann, H.;Sergent, A.M.;Ng, K.K.;Bude, J.;Schulte, W.H.;Garfunkel, E.;Gustafsson, T.; Kwo, J.; Hong, M.; Busch, B.; Muller, D.A.; Chabal, Y.J.; Kortan, A.R.; Mannaerts, J.P.; Yang, B.; Ye, P.; Gossmann, H.; Sergent, A.M.; Ng, K.K.; Bude, J.; Schulte, W.H.; Garfunkel, E.; Gustafsson, T.; MINGHWEI HONG |
| 臺大學術典藏 |
2019-12-27T07:49:51Z |
Advances in high 庥 gate dielectrics for Si and III-V semiconductors
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Kwo, J.;Hong, M.;Busch, B.;Muller, D.A.;Chabal, Y.J.;Kortan, A.R.;Mannaerts, J.P.;Yang, B.;Ye, P.;Gossmann, H.;Sergent, A.M.;Ng, K.K.;Bude, J.;Schulte, W.H.;Garfunkel, E.;Gustafsson, T.; Kwo, J.; Hong, M.; Busch, B.; Muller, D.A.; Chabal, Y.J.; Kortan, A.R.; Mannaerts, J.P.; Yang, B.; Ye, P.; Gossmann, H.; Sergent, A.M.; Ng, K.K.; Bude, J.; Schulte, W.H.; Garfunkel, E.; Gustafsson, T.; MINGHWEI HONG |
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