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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:26:23Z	An improved interface characterization technique for a full-range profiling of oxide damage in ultra-thin gate oxide CMOS devices	Chen, SJ; Lin, TC; Lo, DK; Yang, JJ; Chung, SS; Kao, TY; Shiue, RY; Wang, CJ; Peng, YK

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