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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-12T02:22:38Z	鍺離子佈植技術應用於淺接面製作產生的晶體缺陷之退火行為及其消除方法和低壓化學沉積矽薄膜磊晶之研究	陳邦旭; Peng-Shiu Chen; 謝宗雍; T. E. Hiseh

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