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機構	日期	題名	作者
國立成功大學	2023-09	Development of EUV interference lithography for 25 nm line/space patterns	Sahoo;A, K.;Chen;P, -h.;Lin;C, -h.;Liu;R, -s.;Lin;B, -j.;Kao;T, -s.;Chiu;P, -w.;Huang;T, -p.;Lai;W, -y.;Wang;J;Lee;Y, -y.;Kuan;C, -k.

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