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机构	日期	题名	作者
國立高雄第一科技大學	2001.12	Optical-constant tunable (ZrO2)x/(Cr2O3)y/(Al2O3)1-x-y optical superlattices for attenuated phase shift mask in ArF lithography	Lai, F.D.;Wang, L.A.
國立臺灣大學	2001-07	Blue light-emitting diode fabrication of an InGaN/GaN epilayer bonded on a Si substrate by laser liftoff	Chen, C.C.; Hsu, M.C.; Hsiao, J.R.; Yen, J.L.; Yang, Y.J.; Lin, C.H.; Wang, L.A.; Liu, C.C.
國立成功大學	2001	A study on adhesion and footing issues of HMDSO films as bottom antireflective coating for deep UV lithographies	Lin, C. H.; Chen, H. L.; Wang, L. A.
國立成功大學	2001	Feasibility of utilizing hexamethyldisiloxane film as a bottom antireflective coating for 157 nm lithography	Lin, C. H.; Wang, L. A.
國立臺灣大學	2001	Fiber dependence and coupling efficiency limitation for a lensed fiber integrated with a long period fiber grating	Wang, L.A.; Chen, W.T.
國立臺灣大學	2001	A study on adhesion and footing issues of HMDSO films as bottom antireflective coating for deep UV lithographies	Lin, C. H.; Chen, H. L.; Wang, L. A.
國立臺灣大學	2001	Optical properties of CrO/ZrO optical superlattice for attenuated phase shifting mask at 193 nm wavelength	Lai, F. D.; Wang, L. A.
國立臺灣大學	2001	A wavelength- and loss-tunable band-rejection filter based on corrugated long-period fiber grating	Lin, C.Y.; Wang, L.A.
國立臺灣大學	2001	A torsion sensor made of a corrugated long period fibre grating	Wang, L. A.; Lin, C. Y.; Chern, G. W.
國立臺灣大學	2001	Optical-constant tunable (ZrO2)x/(Cr2O3)y/(Al2O3)1–x–y optical superlattices for attenuated phase shift mask in ArF lithography	Lai, F. D.; Wang, L. A.
國立臺灣大學	2001	Feasibility of utilizing hexamethyldisiloxane film as a bottom antireflective coating for 157 nm lithography	Lin, C. H.; Wang, L. A.
國立臺灣大學	2000-03	Corrugated long period fiber gratings as band-rejection filters	Lin, C.Y.; Wang, L.A.
國立成功大學	2000	Optimized bilayer hexamethyldisiloxane film as bottom antireflective coating for both KrF and ArF lithographies	Lin, C. H.; Wang, L. A.; Chen, H. L.
國立臺灣大學	2000	Optimized bilayer hexamethyldisiloxane film as bottom antireflective coating for both KrF and ArF lithographies	Lin, C. H.; Wang, L. A.; Chen, H. L.
國立臺灣大學	2000	A novel bottom antireflective coating working for both KrF and ArF excimer laser lithography	Wang, L.A.; Chen, H.L.
國立臺灣大學	2000	Multiwavelength fiber sources based on double-pass superfluorescent fiber sources	Su, C.D.; Wang, L.A.
國立臺灣大學	2000	Laser-to-fiber coupling scheme by utilizing a lensed fiber integrated with a long-period fiber grating	Chen, W.T.; Wang, L.A.
國立高雄第一科技大學	1999.07	Silicon-oxynitride films prepared for 157 nm attenuated phase shifting masks	Chen, Hsuen-Li;Wang, L.A.;Yeh, L.S.;Lai, F.D.
國立臺灣大學	1999-05	Multiwavelength fibre source by using long period fibre gratings in superfluorescent fibre source	Su, C.D.; Wang, L.A.
國立臺灣大學	1999-03	Optical coupling between singlemode fibres by utilising long-period fibre gratings	Chen, W.T.; Wang, L.A.
國立臺灣大學	1999-02	Linewidth broadening of Er-doped superfluorescent fibre source using long-period grating	Su, C.D.; Wang, L.A.
國立成功大學	1999	Fabrication of sub-quarter-micron grating patterns by employing DUV holographic lithography	Wang, L. A.; Lin, C. H.; Chen, J. H.
國立臺灣大學	1999	Multilayer hexamethyldisiloxane film as bottom antireflective coating for ArF lithography	Wang, L. A.; Chen, H. L.
國立臺灣大學	1999	Comparison of Er-doped superfluorescent fiber sources in double pass configurations	Wang, L. A.; Chen, C.D.
國立臺灣大學	1999	Optical coupling between single-mode fibres by utilisinglong-period fibre gratings	Chen, W.T.; Wang, L.A.

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