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| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:15:52Z |
HfSiON n-MOSFETs using low-work function HfSi chi gate
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Wu, C. H.; Hung, B. F.; Chin, Albert; Wang, S. J.; Yen, F. Y.; Hou, Y. T.; Jin, Y.; Tao, H. J.; Chen, S. C.; Liang, M. S. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:15:42Z |
Visible colour difference-based quantitative evaluation of colour segmentation
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Chen, H. -C.; Wang, S. -J. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:14:46Z |
High-temperature stable IrxSi gates with high work function on HfSiON p-MOSFETs
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Hung, B. F.; Wu, C. H.; Chin, Albert; Wang, S. J.; Yen, F. Y.; Hou, Y. T.; Jin, Y.; Tao, H. J.; Chen, Shih C.; Liang, Mong-Song |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:14:22Z |
High-temperature stable HfLaON p-MOSFETs with high-work-function Ir3Si gate
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Wu, C. H.; Hung, B. F.; Chin, Albert; Wang, S. J.; Wang, X. P.; Li, M. -F.; Zhu, C.; Yen, F. Y.; Hou, Y. T.; Jin, Y.; Tao, H. J.; Chen, S. C.; Liang, M. S. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:13:02Z |
HtLaON n-MOSFETs using a low work function HfSix gate
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Cheng, C. F.; Wu, C. H.; Su, N. C.; Wang, S. J.; McAlister, S. P.; Chin, Albert |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:11:24Z |
Low threshold voltage and high drive current poly-silicon thin film transistors using Ytterbium metal gate and LaAlO3 dielectric
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Hung, B. F.; Wu, C. H.; Chin, Albert; Wang, S. J.; Lin, J. W.; Hsieh, I. J. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:10:11Z |
White-light emissions from p-type porous silicon layers by high-temperature thermal annealing
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Tsai, W. -C.; Lin, J. -C.; Huang, K. -M.; Yang, P. -Y.; Wang, S. -J. |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:09:24Z |
Very low V(t) [Ir-Hf]/HfLaO CMOS using novel self-aligned low temperature shallow junctions
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Cheng, C. F.; Wu, C. H.; Su, N. C.; Wang, S. J.; McAlister, S. P.; Chin, Albert |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:08:08Z |
High-Performance InGaZnO Thin-Film Transistors Using HfLaO Gate Dielectric
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Su, N. C.; Wang, S. J.; Chin, Albert |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:07:53Z |
A Low Operating Voltage ZnO Thin Film Transistor Using a High-kappa HfLaO Gate Dielectric
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Su, N. C.; Wang, S. J.; Chin, Albert |
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