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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-12T01:24:38Z	高密度電漿之後處理對奈米碳管場發射特性之影響	王文彬; Wen-Pin Wang; 鄭晃忠; Huang-Chung Cheng
義守大學	2010-01	Field emission characteristics of carbon nanotubes post-treated with high-density Ar plasma	Wen-Pin Wang;Hua-Chiang Wen;Sheng-Rui Jian; Huy-Zu Cheng;Jason Shian-Ching Jang;Jenh-Yih Juang;Huang-Chung Cheng;Chang-Pin Chou

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